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Characterization of Series Resistance and Mobility Degradation Parameter and Optimizing Choice of Oxide Thickness in Thin Oxide -Channel MOSFETCaracterización de la resistencia en serie y del parámetro de degradación de movilidad, y optimización de la elección del grosor del óxido en MOSFET de canal de óxido delgado.

Resumen

Presentamos dos métodos para extraer la resistencia en serie y el parámetro de degradación de movilidad en MOSFETs de canal corto. El principio del primer método se basa en la comparación entre el modelo exponencial y el modelo clásico de movilidad efectiva, y para el segundo método se basa en calcular directamente los dos parámetros resolviendo un sistema de dos ecuaciones obtenidas al utilizar dos puntos diferentes en inversión fuerte con un pequeño sesgo de drenaje de la característica (). Los resultados obtenidos con estas técnicas han mostrado una mejor concordancia con las mediciones de datos y han permitido al mismo tiempo determinar la amplitud de la rugosidad superficial y su influencia en la corriente máxima de drenaje y dar el grosor óptimo del óxido.

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