La distribución de la corriente primaria y la resistencia de una célula de Hull modificada se calculan utilizando la técnica de mapeo conforme junto con la evaluación numérica de las ecuaciones integrales resultantes. Se presenta una expresión analítica aproximada para la distribución de corriente primaria de una célula de Hull modificada. Se observa que la distribución de corriente primaria a lo largo de la superficie del cátodo varía de forma controlada en función de la posición en el sustrato. También se han calculado las distribuciones de corriente (primaria, secundaria y terciaria) en la célula a diferentes densidades de corriente medias aplicadas (2, 4,1 y 8,2 mA cm-2) mediante simulación numérica utilizando software basado en elementos finitos. El resultado de la simulación numérica de la distribución de la corriente primaria se ha comparado con la solución analítica y se ha encontrado una buena correspondencia. Experimentalmente, se lleva a cabo la electrodeposición de Cu metálico simple a diferentes densidades de corriente medias aplicadas (2, 4,1 y 8,2 mA cm-2) en un casco modificado. Los resultados de la distribución de corriente (primaria, secundaria y terciaria) obtenidos a partir de la simulación numérica se comparan con los resultados experimentales y se encuentra una coincidencia satisfactoria. La morfología superficial de los depósitos de Cu se examina mediante microscopía electrónica de barrido (SEM).
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