Resumen

Las aleaciones TiAl con alto contenido en Nb tienen una buena resistencia a la oxidación y propiedades mecánicas, pero la microestructura y las propiedades se ven sustancialmente afectadas por la segregación. Para investigar cuantitativamente el comportamiento de la segregación del Al durante la solidificación, se observaron las microestructuras de la aleación Ti-45Al-8Nb (en porcentaje atómico) solidificada direccionalmente (DS) preparada a velocidades de retirada de 30 μm/s y 200 μm/s y a un gradiente de temperatura de 4200 K/m mediante un microscopio óptico y un microanalizador de sonda electrónica. Las microsegregaciones se caracterizaron mediante espectroscopia de dispersión de ondas. Los resultados muestran que los lingotes de DS incluyen la zona de no fusión, la zona de solidificación direccional con granos columnares, la zona blanda y la zona de líquido apagado. Las separaciones de los brazos dendríticos primarios son de 353 μm y 144 μm, respectivamente, para los dos lingotes. Pero las microestructuras solidificadas de los lingotes son grandes colonias laminares, que contienen unas pocas manchas B2 y bandas γ inducidas por la microsegregación. Desde la zona dendrítica hasta la zona columnar, las fracciones de volumen de parches B2 y bandas γ disminuyen. Las extensiones de segregación de Al y Nb disminuyen con el aumento de la velocidad de solidificación. Existe un evidente proceso de retrodifusión del Al durante la solidificación y el enfriamiento después de la solidificación. De acuerdo con la evolución de los perfiles de concentración de Al desde la zona blanda hasta la zona de grano columnar, se calcula semicuantitativamente el coeficiente de interdifusión para el Al en el β-Ti a una temperatura cercana al solidus, y el valor es de (6 - 11) × 10-11 m2/s.

• Materias:Polímeros Campos electromagnéticos Hornos de cemento Poliuretanos Nanopartículas Cemento
• Subjects:Polymers Electromagnetic fields Cement kilns Polyurethanes Nanoparticles Cement
• Palabras claves:zona blanda, parche b2, proceso de difusión posterior, buena resistencia a la oxidación, proceso de al, microanalizador de sonda electrónica, extensión de al, espaciado de brazos dendríticos, fracción de b2, evolución de al
• Keywords:mushy zone, b2 patch, back diffusion process, good oxidation resistance, process of al, electronic probe microanalyzer, extent of al, dendritic arms spacing, fraction of b2, evolution of al