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Electron Paramagnetic Resonance Examination of Free Radical Formation in Salicylic Acid and Urea Exposed to UV IrradiationExamen por Resonancia Paramagnética de Electrones de la Formación de Radicales Libres en Ácido Salicílico y Urea Expuestos a Irradiación UV

Resumen

Los radicales libres formados por la irradiación UV de las dos fórmulas magistrales aplicadas sobre la piel, ácido salicílico y urea, se examinaron mediante espectroscopia EPR de banda X (9,3 GHz). Se determinó la influencia del tiempo de irradiación UVA (315-400 nm) sobre las propiedades y concentraciones de radicales libres en las muestras de fármacos. La fórmula magistral no irradiada no contenía radicales libres. Se analizaron las amplitudes (A) y los anchos de línea (ΔBpp) de los espectros EPR. En los fármacos analizados existía un proceso rápido de relajación de la red de espín. La irradiación UV no modificó las interacciones espín-red en la fórmula magistral analizada. Las concentraciones de radicales libres formados por irradiación UV en ácido salicílico y urea fueron de ~1017-1018 espines/g. La mayor formación de radicales libres bajo irradiación UV se observó en el ácido salicílico que en la urea. La concentración de radicales libres en el ácido salicílico aumentó con el incremento del tiempo de irradiación UV de 15 a 30 minutos, y después su valor permaneció invariable. Se constató el aumento de la concentración de radicales libres en la urea con el tiempo de irradiación UV. El ácido salicílico se caracteriza por una mayor fotosensibilidad que la urea. El ácido salicílico, la urea y la piel tratada con ellos no deben almacenarse expuestos a la radiación UV. Se conformó la utilidad de la espectroscopia EPR para optimizar las condiciones de almacenamiento de fármacos de receta.

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