Resumen

Hemos explorado el uso directo de alúmina anodizada (AAO) fabricada sobre una oblea de Si como molde para la litografía de nanoimpresión (NIL). El molde de AAO se ha fabricado en un área de más de 10 cm2 con dos diámetros de poro diferentes de 163±24 nm y 73±7 nm. Uno de los retos clave de la falta de unión entre la monocapa autoensamblada (SAM) antiadherente y el AAO se ha superado modificando la química de la superficie del molde de AAO fabricado recubriéndolo con una fina capa de SiO2. A continuación, hemos aplicado la monocapa autoensamblada (SAM) basada en silano que se utiliza habitualmente en estos moldes de AAO recubiertos de SiO2 y hemos conseguido imprimir con éxito pilares de resistencia con un tamaño de característica de 172±25 nm utilizando el molde con un diámetro de poro de 163±24 nm. Por último, hemos conseguido una estructura de patrón L10 FePt orientada (001) con un diámetro de punto de 42±4 nm utilizando un molde AAO con un diámetro de poro de 73±7 nm. El Hc perpendicular del FePt sin patrón y con patrón es de aproximadamente 3,3 kOe y 12 kOe, respectivamente. Estos resultados indican que el molde de AAO puede utilizarse potencialmente en NIL para fabricar nanoestructuras estampadas en grandes superficies.

• Materias:Biotecnología Nanotecnología Fotocatálisis Nanopartículas
• Subjects:Biotechnology Nanotechnology Photocatalysis Nanoparticles
• Palabras claves:molde aao, diámetro de poro, moldes aao recubiertos, diferentes diámetros de poro, aao, nil, sam, koe, molde, monocapa
• Keywords:aao mold, pore diameter, coated aao molds, different pore diameters, aao, nil, sam, koe, mold, monolayer