Resumen

En este estudio se ha desarrollado un método de estampación para fabricar electrodos interdigitados (IDEs) sobre sustrato de vidrio a partir de una tinta de plata al 37,5%. Este método es sencillo y rápido. En primer lugar, se goteó una pequeña cantidad de tinta de plata en una esponja con patrón de IDE de un sello y, a continuación, se pudo estampar el patrón de IDE deseado hecho de coloides de plata de tamaño nanométrico en un sustrato de vidrio, que posteriormente se sinterizó a 280°C durante 10 minutos para obtener el IDE de plata final. Nuestro breve estudio demostró que cuando se utilizaba una fuerza de estampado grande, se estampaba más tinta al principio y disminuía después de cada uso. Sin embargo, si la fuerza era demasiado pequeña, no habría suficiente tinta para una IDE completa. Por tanto, existía una fuerza óptima para fabricar IDEs con cambios mínimos de una muestra a otra. La dimensión media de un IDE cuando la fuerza aplicada era de 102 gm era de aproximadamente 403 ± 20 µm de anchura y 1154 ± 153 nm de altura, y la resistividad eléctrica final media era de aproximadamente 10×10-6 Ω-cm.

• Materias:Propiedades fisicoquímicas Materiales compuestos Fotocatálisis Pavimentos Sistema cuántico
• Subjects:Chemicophysical properties Composite materials Photocatalysis Floors Quantum system
• Palabras claves:sustrato de vidrio, tinta de plata, ide final de plata, cantidad de plata, patrón de ide deseado, gran fuerza de estampación, resistividad eléctrica final, coloide de plata nanoscópico, fuerza aplicada, muestra
• Keywords:glass substrate, silver ink, final silver ide, amount of silver, desired ide pattern, large stamping force, final electrical resistivity, nanosized silver colloid, applied force, sample