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Fabricating Pinhole-Free YSZ Sub-Microthin Films by Magnetron Sputtering for Micro-SOFCsFabricación de películas submicromicrofinas de YSZ sin agujeros mediante pulverización catódica por magnetrón para micro-SOFCs

Resumen

Se prepararon películas finas submicrométricas de óxido de circonio estabilizado con itria (YSZ) sobre diversos sustratos con diferentes morfologías superficiales mediante pulverización catódica por magnetrón seguida de oxidación térmica. Se observaron agujeros de alfiler en las películas depositadas sobre sustratos de alúmina nanoporosa. Las películas iniciales densas de Y/Zr desarrollaron nanocracks tras la oxidación térmica sobre sustratos lisos de obleas de Si. En condiciones óptimas de sputtering y oxidación, se obtuvieron películas lisas y sin grietas/poros sobre sustratos de obleas de Si. Las películas delgadas de YSZ mostraron una conducción totalmente iónica con conductividades iónicas, y la energía de activación corroboró bien con los valores de las placas comerciales de YSZ. Las películas delgadas de YSZ pueden utilizarse en pilas de combustible de óxido sólido (SOFC) para operaciones a temperatura intermedia.

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