Presentamos nuestros resultados recientes sobre la fabricación de capas poliméricas nanoestructuradas destinadas a desarrollar un recubrimiento antirreflectante eficaz sobre silicio. El método de fabricación propuesto se basa en el autoensamblaje y en la formación de figuras de aliento. Mediante operaciones sencillas y directas, somos capaces de producir diferentes recubrimientos nanoestructurados: nanodomos densamente empaquetados, nanoporos distribuidos aleatoriamente y nanoporos multicapa muy juntos. Mediante mediciones de reflectividad óptica en obleas de silicio recubiertas, demostramos que el último tipo de nanoestructura es capaz de reducir la reflectividad de la superficie de silicio estándar (≈40
t 450 nm) hasta aproximadamente un 10%.
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