Resumen

Este estudio pretende depositar películas delgadas de carbono tipo diamante (DLC) de alta transmitancia sobre sustrato de vidrio D263T a temperatura ambiente mediante un blanco de polvo de diamante utilizando la técnica de sputtering por magnetrón de radiofrecuencia (RF). Además, se utilizaron diversos parámetros de proceso para ajustar las propiedades de las películas delgadas mediante el método Taguchi. Los resultados experimentales muestran que el contenido de carbono enlazado sp3 disminuye en función del efecto de la temperatura del sustrato. Además, la dureza de todas las películas de DLC monocapa depositadas oscila entre 13,2 y 22,5 GPa, y la rugosidad superficial RMS mejoró significativamente con la disminución de la presión de sputtering. La repelencia al agua de las películas DLC depositadas mejoró significativamente con el aumento del contenido de sp3, y su ángulo de contacto fue mayor que el de la no recubierta en 1,45 veces. Además, el índice de refracción (n) de todas las películas DLC depositadas oscila entre 1,95 y 2,1 a λ = 600 nm. Estos resultados demuestran que el espesor aumentaba a medida que aumentaba la reflectancia. La película de DLC bajo una potencia de RF de 150 W posee una alta capacidad de transmisión (>81%) y una baja capacidad de reflectancia media (<9,5%) en las longitudes de onda visibles (a λ = 400-700 nm).

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Optoelectrónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Optoelectronics
• Palabras claves:películas dlc, películas delgadas, sustrato de vidrio d263t, baja capacidad de reflectancia media, rugosidad superficial rms, blanco de polvo de diamante, alta capacidad transmisiva, diamante de alta transmitancia, películas dlc de capa, diversos parámetros de proceso
• Keywords:dlc films, thin films, d263t glass substrate, low average reflectance ability, rms surface roughness, diamond powder target, high transmissive ability, high transmittance diamond, layer dlc films, various process parameters