Resumen

Se utilizó una técnica de deposición en ángulo oblicuo (GLAD) para generar nanorods de SiO2 sobre un sustrato de vidrio con el fin de fabricar una superficie nanoestructurada funcional superhidrofóbica de bajo coste. Las estructuras de nanorodos de SiO2 depositadas mediante GLAD se fabricaron utilizando diferentes velocidades de deposición, velocidades de rotación del sustrato, ángulos oblicuos y tiempos de deposición para analizar los efectos de las condiciones de procesamiento sobre las características de las nanoestructuras funcionales fabricadas. Se midió la humectabilidad de la superficie tras su modificación con una monocapa autoensamblada (SAM). Los ángulos de contacto con el agua medidos se vieron afectados principalmente por la velocidad de rotación del sustrato y el ángulo oblicuo, ya que la fracción superficial de la nanoestructura GLAD se vio afectada principalmente por estos parámetros. Se obtuvo un ángulo de contacto máximo de 157° con la muestra de GLAD fabricada a una velocidad de rotación de 5 rpm y un ángulo oblicuo de 87°. Aunque el grosor de deposición (altura de los nanorods) no fue un factor dominante para determinar la humectabilidad, seleccionamos un grosor de deposición de 260 nm como condición óptima de procesado basándonos en la transmitancia óptica medida de las muestras porque las películas ópticamente transparentes pueden servir como nanoestructuras funcionales superhidrofóbicas para aplicaciones ópticas.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanotubos Nanomateriales
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanotubes Nanomaterials
• Palabras claves:espesor de deposición, ángulo oblicuo, superficie nanoestructurada funcional superhidrofóbica, ángulo de contacto máximo, condición óptima de procesamiento, velocidad de rotación del sustrato, nanoestructuras funcionales superhidrofóbicas, diversas velocidades de deposición, ángulos de contacto con el agua, glad
• Keywords:deposition thickness, oblique angle, superhydrophobic functional nanostructured surface, maximum contact angle, optimum processing condition, substrate rotation speed, superhydrophobic functional nanostructures, various deposition rates, water contact angles, glad