La fabricación de nanoestructuras unidimensionales es una cuestión clave para los dispositivos ópticos, los dispositivos de fluidos y las células solares debido a sus funcionalidades únicas, como la antirreflexión y la superhidrofobicidad. En este trabajo se describe un novedoso proceso de un solo paso para fabricar estructuras jerárquicas modelables formadas por microestructuras y nanoestructuras unidimensionales utilizando una capa de sacrificio. La capa no sólo actúa como micromáscara para producir microestructuras, sino también como nanomáscara para nanoestructuras en función del tiempo de grabado. Con este método, fabricamos estructuras jerárquicas con patrones, con la capacidad de controlar la forma y la densidad de la nanoestructura. Las distintas arquitecturas proporcionaron funcionalidades únicas. Por ejemplo, nuestro método de grabado con capa de sacrificio permitió formar nanoestructuras más densas de lo que sería posible con los procesos convencionales. La densa nanoestructura dio lugar a una reflectancia muy baja de la superficie de silicio (menos del 1%). La superficie nanoestructurada y estructurada jerárquicamente también presentaba excelentes propiedades antihumectantes, con un ángulo de contacto elevado (>165°) y un ángulo de deslizamiento bajo (<1°). Creemos que nuestro método de fabricación aportará nuevos conocimientos sobre superficies funcionales, como las utilizadas para aplicaciones antihumectantes y antirreflectantes.
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