Resumen

El sistema de imágenes de superlente en nanolitografía puede considerarse como una cascada de dos cavidades F-P, es decir, una cavidad de superlente y una cavidad dieléctrica entre la superlente y la máscara introducida de alta pérdida, y la función de transferencia del sistema se obtiene considerando reflexiones múltiples dentro de las dos cavidades. Para el rango del vector de onda de interés, el pico alto típico del coeficiente de transmisión de la superlente coincide con un mínimo local del coeficiente de transmisión de la cavidad dieléctrica. El pico de la función de transferencia del sistema corresponde al pico del coeficiente de transmisión de la cavidad dieléctrica. El sistema de imágenes de superlente delgada en nanolitografía se analiza basándose en la función de transferencia, que puede aplanarse simplemente ajustando el coeficiente de transmisión de la cavidad dieléctrica y la cavidad de la superlente. Los resultados se validan mediante simulaciones por el método de los elementos finitos (MEF).

• Materias:Rayo láser Onda electromagnética Óptica Fibra óptica
• Subjects:Lasers Electromagnetic waves Optics Optical fibres
• Palabras claves:cavidad dieléctrica, coeficiente de transmisión, función de transferencia, cavidad de superlente, sistema de formación de imágenes de superlente delgada, método de elementos finitos, sistema de formación de imágenes de superlente, pico alto típico, nanolitografía, pico
• Keywords:dielectric cavity, transmission coefficient, transfer function, superlens cavity, thin superlens imaging system, finite element method, superlens imaging system, typical high peak, nanolithography, peak