Biblioteca122.739 documentos en línea

Artículo

Impact of the Gate Width of Al0.27Ga0.73N/AlN/Al0.04Ga0.96N/GaN HEMT on Its CharacteristicsImpacto de la anchura de la puerta del HEMT de Al0,27Ga0,73N/AlN/Al0,04Ga0,96N/GaN en sus características

Resumen

Este artículo presenta el impacto de los tamaños de disposición de los transistores de alta movilidad (HEMT) de heteroestructura de Al0,27Ga0,73N/AlN/Al0,04Ga0,96N/GaN sobre el sustrato de SiC en sus características, que incluyen la tensión umbral, la transconductancia máxima, la frecuencia característica y la frecuencia de oscilación máxima. Los parámetros cambiantes incluyen el número de dedos de la puerta, la anchura de la puerta por dedo. Los resultados de las mediciones basadas en dispositivos de fuente común demuestran que los parámetros mencionados tienen diferentes efectos sobre la tensión umbral, la transconductancia máxima y las características de frecuencia.

  • Tipo de documento:
  • Formato:pdf
  • Idioma:Inglés
  • Tamaño: Kb

Cómo citar el documento

Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.

Este contenido no est� disponible para su tipo de suscripci�n

Información del documento