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Impact of NiOx Buffer Layers on the Dielectric Properties of BaTiO3 Thin Films on Nickel Substrates Fabricated by Polymer Assisted DepositionImpacto de las capas tampón de NiOx en las propiedades dieléctricas de las láminas delgadas de BaTiO3 sobre sustratos de níquel fabricadas mediante deposición asistida por polímeros

Resumen

La monitorización de la salud estructural con películas finas piezoeléctricas integradas en metales estructurales presenta grandes ventajas para aplicaciones potenciales. Sin embargo, la integración de películas delgadas piezoeléctricas en metales estructurales sigue siendo un reto. En este trabajo, presentamos las películas delgadas piezoeléctricas de titanato de bario [BaTiO3 (BTO)] depositadas sobre sustratos policristalinos de Ni mediante el método de deposición asistida por polímeros (PAD) utilizando NiOx como capas tampón. Las capas tampón de NiOx con diferentes espesores se prepararon variando el tiempo de inmersión de 5 minutos a 4 horas en solución de H2O2. Las propiedades dieléctricas y de corriente de fuga de las películas delgadas se han estudiado mediante sistemas de ensayo generales. La heteroestructura de BTO/Ni con un tiempo de inmersión de 2 horas presenta mejores propiedades dieléctricas, con una constante dieléctrica superior a 1500 y una disminución de 34,8 de la pérdida dieléctrica en comparación con la de 5 minutos de inmersión. Los resultados muestran que la densidad de corriente de fuga se ve muy afectada por el grosor de la capa tampón de NiOx. Los mecanismos de conducción de la heteroestructura BTO/Ni se han analizado en función de las curvas características J-V.

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