Resumen

Se ha desarrollado un sencillo proceso de impresión por contacto blando basado en una solución que puede generar fácilmente nanopatrones de menos de 100 nm con un grosor insignificante de capa residual. En este proceso, el grosor de la capa residual podría reducirse significativamente controlando la concentración de nanotinta o utilizando nanotinta con un punto de curado elevado. Además, el proceso adicional de sonicación, introducido en el proceso de impresión blanda, podría facilitar una mayor disminución del espesor de la capa residual. En consecuencia, se fabricaron con éxito nanoestructuras de ZnO con una capa residual insignificante y nanoestructuras de Ag con una transmitancia del 63,1 de transmitancia. Esperamos que nuestro proceso de impresión pueda utilizarse para fabricar conductores semitransparentes para diversos dispositivos optoelectrónicos mediante la optimización de los parámetros dimensionales de los nanopatrones.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Bioingeniería Nanoestructuras Nanocompuestos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Bioengineering Nanostructures Nanocomposites
• Palabras claves:capa residual, proceso de impresión, proceso de sonicación adicional, proceso de impresión por contacto, punto de curado elevado, capa residual despreciable, diversos dispositivos optoelectrónicos, nanoenlace, espesor, nanoestructuras ag
• Keywords:residual layer, printing process, additional sonication process, contact printing process, high curing point, negligible residual layer, various optoelectronic devices, nanoink, thickness, ag nanostructures