En este estudio se utiliza el pulverizado por magnetrón de radiofrecuencia (pulverizado RF) para depositar una película conductora transparente de GZO y una película fina de Ti sobre el mismo sustrato de vidrio corning y, a continuación, se trata la película fina de GZO/Ti con un recocido térmico rápido. Las temperaturas de recocido son de 300°C , 500°C y 550°C, respectivamente. Las películas finas de óxido conductor transparente (TCO) Ti:GZO se depositan sobre sustratos de vidrio mediante una técnica de pulverización catódica por magnetrón de radiofrecuencia. A continuación, las películas finas se recuecen a temperaturas de 300°C, 500°C y 550°C, respectivamente, para un recocido térmico rápido. A continuación, se exploran sistemáticamente los efectos de la temperatura de recocido sobre las propiedades ópticas, la resistividad y las propiedades nanomecánicas de las películas delgadas de Ti:GZO. Los resultados muestran que todas las películas recocidas tienen una excelente transparencia (~90%) en el rango de luz visible. Además, la resistividad de las películas de Ti:GZO se reduce al aumentar la temperatura de recocido, mientras que la concentración de portadores y la movilidad Hall aumentan. Por último, la dureza y el módulo de Young de las películas delgadas de Ti:GZO aumentan al aumentar la temperatura de recocido.
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