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Influence of Annealing Temperature on the Characteristics of Ti-Codoped GZO Thin Solid FilmInfluencia de la Temperatura de Recocido en las Características de la Película Sólida Delgada de GZO Codificada con Ti

Resumen

En este estudio se utiliza el pulverizado por magnetrón de radiofrecuencia (pulverizado RF) para depositar una película conductora transparente de GZO y una película fina de Ti sobre el mismo sustrato de vidrio corning y, a continuación, se trata la película fina de GZO/Ti con un recocido térmico rápido. Las temperaturas de recocido son de 300°C , 500°C y 550°C, respectivamente. Las películas finas de óxido conductor transparente (TCO) Ti:GZO se depositan sobre sustratos de vidrio mediante una técnica de pulverización catódica por magnetrón de radiofrecuencia. A continuación, las películas finas se recuecen a temperaturas de 300°C, 500°C y 550°C, respectivamente, para un recocido térmico rápido. A continuación, se exploran sistemáticamente los efectos de la temperatura de recocido sobre las propiedades ópticas, la resistividad y las propiedades nanomecánicas de las películas delgadas de Ti:GZO. Los resultados muestran que todas las películas recocidas tienen una excelente transparencia (~90%) en el rango de luz visible. Además, la resistividad de las películas de Ti:GZO se reduce al aumentar la temperatura de recocido, mientras que la concentración de portadores y la movilidad Hall aumentan. Por último, la dureza y el módulo de Young de las películas delgadas de Ti:GZO aumentan al aumentar la temperatura de recocido.

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