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Influence of Deposition Condition on Y2O3 Coatings Produced by Pulsed Electrophoretic DepositionInfluencia de las condiciones de deposición en los recubrimientos de Y2O3 producidos por deposición electroforética pulsada

Resumen

Se preparó una solución acuosa de suspensión de nanopartículas de Y2O3 utilizando ácido cítrico. A continuación, se depositó una película de Y2O3 utilizando esta solución con deposición electroforética pulsada (EPD). Se obtuvo una película densa de Y2O3 de 25,7 μm de grosor con condiciones de deposición de 0,5 wt% de concentración de Y2O3, tensión de polarización de 0,5 V y frecuencia de polarización de 1 kHz. Las resistividades respectivas de la película tal como se depositó y de las películas tratadas térmicamente a 200°C y 400°C fueron de 2,84 × 103 Ω-cm, 5,36 × 104 Ω-cm y 2,05 × 106 Ω-cm. Se obtuvo una película densa de Y2O3 de 59,8 μm de espesor mediante la deposición en dos pasos con cambio de la tensión de polarización: un primer paso de 0,5 V y un segundo paso de 2,0 V.

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