Películas de DLC puro, Si-DLC y Si-N-DLC depositadas a partir de C2H2, C2H2 :TMS y C2H2 :TMS :Se utilizaron mezclas de N2 para estudiar los efectos de los contenidos elementales (silicio, silicio-nitrógeno) en las propiedades de deposición y resistencia a la corrosión. Las películas se prepararon sobre obleas de Si (100) mediante la técnica de implantación iónica por plasma (PBII). La estructura de la película se analizó mediante espectroscopia Raman. La composición de la superficie superior de las películas se midió mediante espectroscopia de energía dispersiva de rayos X (EDS). La dureza y el módulo elástico de las películas se midieron mediante un durómetro de nanoindentación. El comportamiento ante la corrosión de las películas se llevó a cabo mediante experimentos de polarización potenciodinámica en una solución acuosa de NaCl 0,05 M. Los resultados indican que la dureza y la resistencia a la corrosión de la película de Si-DLC aumentan a medida que aumenta el contenido de silicio. Esto se debe al aumento del cluster sp3. La resistencia a la corrosión de una película de DLC pura aumenta cuando el silicio y el silicio-nitrógeno se dopan en la película. Las películas de Si-DLC con un contenido de silicio del 40 at.% tenían un valor de potencial de corrosión de 0,61 V, mientras que una película de Si-N-DLC con un contenido de silicio y nitrógeno de 19,3 at.
1 at.% muestra un valor de potencial de corrosión de 0,85 V, lo que supone una mejora considerable de la propiedad de resistencia a la corrosión.
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