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Influence of the Total Gas Flow at Different Reaction Times for CVD-Graphene Synthesis on Polycrystalline NickelInfluencia del flujo total de gas a diferentes tiempos de reacción para la síntesis de grafeno por CVD sobre níquel policristalino

Resumen

Se presenta la optimización del flujo total de gas (CH4 H2) durante la etapa de reacción para diferentes tiempos de reacción para la síntesis de grafeno por CVD sobre lámina de níquel policristalino utilizando un montaje a presión atmosférica. Se determinó un valor de espesor relacionado con el número de capas de grafeno en cada una de las muestras sintetizadas utilizando una aplicación Excel-VBA. Este método asignó un valor de espesor entre 1 y 1000 y proporcionó información sobre el porcentaje de cada tipo de grafeno (monocapa, bicapa y multicapa) depositado sobre la lámina de níquel policristalino. Se estudió en detalle la influencia del flujo total de gas durante la etapa de reacción y el tiempo de reacción. La microscopía óptica mostró que las muestras estaban recubiertas de distintos tipos de grafeno, como el multicapa, el de pocas capas, el bicapa y el monocapa. Las variables de síntesis se optimizaron en función del valor del espesor y los resultados se verificaron mediante espectroscopia Raman. Las mejores condiciones se obtuvieron con una temperatura de reacción de 980°C, una relación de flujo CH4/H2 de 0,07 v/v, un tiempo de reacción de 1 minuto y un flujo total de gas de 80 NmL/min. En la muestra obtenida en las condiciones optimizadas, el 80% del área estaba cubierta con grafeno monocapa y menos del 1% con grafeno multicapa.

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