Resumen

En este estudio se describe la síntesis de partículas compuestas no esféricas de poli(etilenglicol) diacrilato (PEG-DA)/SiO2 y PEG-DA/Al2O3 con vías simples o múltiples y las correspondientes partículas inorgánicas de SiO2 y Al2O3 sintetizadas mediante el método de litografía de flujo detenido (SFL). Se prepararon suspensiones precursoras de PEG-DA, 2-hidroxi-2-metilpropiofenona y nanopartículas de SiO2 o Al2O3. La suspensión precursora fluye a través de un dispositivo microfluídico montado en un microscopio vertical y se polimeriza en un proceso automatizado. Una fotomáscara modelada con características geométricas transparentes enmascara la luz UV para sintetizar las partículas. Se sintetizaron partículas compuestas con vias y se obtuvieron las correspondientes partículas inorgánicas de SiO2 y Al2O3 mediante quemado de polímero y sinterización de los compuestos. Se logró la síntesis de partículas inorgánicas porosas de SiO2 y Al2O3 con vías y dimensiones totales en el rango de ~35-90 µm. Las mediciones de la superficie específica BET para partículas inorgánicas de una sola vía fueron de 56-69 m2/g para partículas de SiO2 y de 73-81 m2/g para partículas de Al2O3. Se midieron áreas superficiales de hasta 114 m2/g en partículas de SiO2 cúbicas multivía. Los resultados sugieren que, si se optimizan, las partículas podrían tener aplicaciones en ámbitos en los que una superficie elevada es importante, como la catálisis y el tamizado.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanomateriales Nanosensores
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanomaterials Nanosensors
• Palabras claves:partículas, al2o3, peg, partículas al2o3, partículas inorgánicas, medidas de superficie específica, características geométricas transparentes máscaras luz uv, litografía stop flow, alta superficie, partículas compuestas no esféricas
• Keywords:particles, al2o3, peg, al2o3 particles, inorganic particles, specific surface area measurements, transparent geometric features masks uv light, stop flow lithography, high surface area, nonspherical composite particles