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Direct-Write Ion Beam LithographyLitografía por haz de iones de escritura directa

Resumen

La creación de patrones con un haz de iones focalizado (FIB) es un proceso de fabricación extremadamente versátil que puede utilizarse para crear diseños a microescala y nanoescala en la superficie de prácticamente cualquier material de muestra sólido. En función del tipo de interacción ion-muestra utilizada, la fabricación por FIB puede ser tanto sustractiva como aditiva, incluso en la misma etapa de procesamiento. De hecho, la capacidad de crear fácilmente patrones tridimensionales y dar forma a objetos mediante fresado y deposición es probablemente la característica más reconocida de la litografía por haz de iones (IBL) y el micromecanizado. Sin embargo, existen otras técnicas, como los procesos de creación de patrones y funcionalización de superficies basados en la implantación y el daño iónico, que han surgido como valiosas adiciones al conjunto de herramientas de la nanofabricación y que son menos conocidas. Aunque el rendimiento de la fabricación, en general, es discutiblemente bajo debido a la naturaleza en serie del proceso de escritura directa, la velocidad no es necesariamente un problema en estas aplicaciones de IBL que trabajan con pequeñas dosis de iones. Aquí ofrecemos una revisión exhaustiva de la litografía por haces de iones en general y una guía práctica de las distintas técnicas de IBL desarrolladas hasta la fecha. Se presta especial atención a las aplicaciones en nanofabricación.

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