Estudiamos un diseño de célula solar basada en InGaN con alto contenido en indio (0,8) en el que la capa activa de InGaN se intercala entre una capa de tapón de GaN y una capa espaciadora de GaN. La incorporación de la capa de sacrificio permite el grabado de la superficie frontal sin eliminar el InGaN activo, lo que da lugar a un aumento del 50 % de la densidad de corriente de cortocircuito para una capa de InGaN de 15 nm de grosor.
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