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Artículo

Improvement of Porous GaAs (100) Structure through Electrochemical Etching Based on DMF SolutionMejora de la estructura porosa de GaAs (100) mediante grabado electroquímico basado en solución DMF

Resumen

Presentamos un informe sobre la fabricación de GaAs (100) poroso utilizando tres ácidos diferentes, H2SO4, HF y HCl, diluidos en soluciones basadas en DMF. La mezcla de H2SO4 con DMF mostró las mejores estructuras porosas en comparación con los otros ácidos. A continuación se varió la concentración de la solución de DMF para una concentración fija de H2SO4. Se observó que las distintas concentraciones del disolvente DMF daban lugar a distintos tipos de morfología del GaAs poroso. Además, una mayor densidad de corriente mejoraba la uniformidad de la distribución de los poros. El mejor GaAs poroso presentaba poros circulares bien definidos con una gran uniformidad. Hasta donde sabemos, nunca se había descrito una estructura de este tipo. Por último, se propusieron las condiciones óptimas de grabado de los poros.

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