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Performance Improvement of Microcrystalline p-SiC/i-Si/n-Si Thin Film Solar Cells by Using Laser-Assisted Plasma Enhanced Chemical Vapor DepositionMejora del rendimiento de las células solares microcristalinas de película delgada de p-SiC/i-Si/n-Si mediante deposición química de vapor mejorada con plasma asistida por láser

Resumen

Las células solares microcristalinas de película delgada de p-SiC/i-Si/n-Si tratadas con plasma de hidrógeno se fabricaron a baja temperatura utilizando un sistema de deposición química en fase vapor (LAPECVD) asistida por láser y plasma de CO2. Según los resultados de micro-Raman, las películas de i-Si cambiaron de 482 cm-1 a 512 cm-1 a medida que la potencia del láser de asistencia aumentaba de 0 W a 80 W, lo que indicaba una transformación gradual de Si amorfo a cristalino. A partir de los resultados de difracción de rayos X (DRX), se obtuvieron las películas microcristalinas de i-Si con difracción (111), (220) y (311). En comparación con las células solares de película fina de Si depositadas sin asistencia láser, la densidad de corriente de cortocircuito y la eficiencia de conversión de potencia de las células solares con una potencia láser de asistencia de 80 W mejoraron de 14,38 mA/cm2 a 18,16 mA/cm2 y de 6,89% a 8,58%, respectivamente.

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  • Formato:pdf
  • Idioma:Inglés
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Información del documento

  • Titulo:Performance Improvement of Microcrystalline p-SiC/i-Si/n-Si Thin Film Solar Cells by Using Laser-Assisted Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
  • Autor:Hsin-Ying, Lee; Ting-Chun, Wang; Chun-Yen, Tseng
  • Tipo:Artículo
  • Año:2014
  • Idioma:Inglés
  • Editor:Hindawi Publishing Corporation
  • Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Biofotónica
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