Biblioteca122.294 documentos en línea

Artículo

Graphene Membrane as Suspended Mask for LithographyMembrana de grafeno como máscara suspendida para litografía

Resumen

Gracias a sus excelentes propiedades mecánicas, el grafeno es especialmente adecuado para la realización de membranas suspendidas. El presente artículo trata de una posible aplicación de dichas membranas, a saber, la realización de máscaras litográficas suspendidas para la evaporación de sombras sobre un sustrato. Esta técnica, que se utiliza en gran medida para la realización de dispositivos mesoscópicos, en los que los requisitos de calidad de las uniones impiden la exposición al aire ambiente y la aparición de fenómenos cuánticos requiere estructuras muy definidas, puede mejorarse mediante el uso de máscaras bidimensionales puras, como las de grafeno. Se presentan y discuten las ventajas y diferencias de este material con respecto a los polímeros empleados habitualmente.

  • Tipo de documento:
  • Formato:pdf
  • Idioma:Inglés
  • Tamaño: Kb

Cómo citar el documento

Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.

Este contenido no est� disponible para su tipo de suscripci�n

Información del documento