Resumen

Mostramos un procedimiento eficaz para el ajuste lateral de estructuras en litografía de nanoimpresión (NIL) que se ha desarrollado como método vertical descendente para fabricar nanopatrones de gran superficie. El procedimiento se aplicó a la sintonización de resonancias ópticas en metasuperficies complementarias apiladas (SC) basadas en sustratos de silicio sobre aislante (SOI) y se comprobó que permitía realizar la sintonización de estructuras con una precisión de nm utilizando un solo molde en el proceso NIL. El ajuste de la estructura nos permitió obtener un ajuste fino de las resonancias ópticas, ofreciendo una nanofabricación rentable, de alto rendimiento y de alta precisión. También demostramos que las resonancias ópticas sintonizadas mejoran de forma selectiva y significativa la fluorescencia (FL) de las moléculas de colorante en un rango cercano al infrarrojo. La intensidad de la FL en una metasuperficie SC es más de 450 veces superior a la intensidad de la FL en una película plana de Au sobre un sustrato SOI.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Bioingeniería Nanoestructuras Nanocompuestos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Bioengineering Nanostructures Nanocomposites
• Palabras claves:intensidad fl, sintonización de estructuras, sustrato soi base, película au plana, sintonización de estructuras laterales, sintonización de resonancias ópticas, resonancias ópticas sintonizadas, proceso nil, metasuperficie sc, nanopatrones de área
• Keywords:fl intensity, structure tuning, base soi substrate, flat au film, lateral structure tuning, optical resonance tuning, tuned optical resonances, nil process, sc metasurface, area nanopatterns