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Lithography-Free, Low-Cost Method for Improving Photodiode Performance by Etching Silicon Nanocones as Antireflection LayerMétodo de bajo coste y sin litografía para mejorar el rendimiento de los fotodiodos grabando nanoconos de silicio como capa antirreflectante

Resumen

Se ha demostrado un proceso de tres pasos para mejorar el rendimiento del fotodiodo mediante la creación de un bosque de nanoconos en la superficie del fotodiodo como capa antirreflectante. Se ha demostrado que este proceso de alto rendimiento y bajo coste reduce la reflectividad en un 66,1%, mejora la eficiencia cuántica en un 27% y aumenta la capacidad de respuesta en un 25,7%. Este proceso de fabricación de bajo coste puede aplicarse para aumentar la capacidad de respuesta de los dispositivos fotónicos basados en silicio.

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