Resumen

Los métodos de autoensamblaje desempeñan un papel fundamental en muchas técnicas modernas de fabricación para diversas aplicaciones nanotecnológicas. En este trabajo demostramos dos alternativas para el patronaje autoensamblado dentro de la resolución a nanoescala de nanocristales semiconductores ópticamente activos. El primero es selectivo con el sustrato y utiliza cualquier patrón de superficie de alta resolución para lograr el autoensamblaje localizado. El segundo método utiliza una superficie con poli(metacrilato de metilo) (PMMA) resistir la adsorción de patrones del nanocristal con enlaces covalentes y despegue.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanotubos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanotubes
• Palabras claves:patrón de superficie de alta resolución, muchas técnicas modernas de fabricación, nanocristales semiconductores activos, varias aplicaciones nanotecnológicas, auto, métodos de ensamblaje, enlaces covalentes, papel principal, resolución a nanoescala, poli(metacrilato de metilo)
• Keywords:high resolution surface patterning, many modern fabrication techniques, active semiconductor nanocrystals, various nanotechnology applications, self, assembly methods, covalent bonds, major role, nanoscale resolution, poly(methyl methacrylate