La litografía de copolímeros en bloque (BCP) aprovecha las propiedades de separación microfásica de los BCP para crear patrones ordenados de nanoestructuras en grandes superficies. En este trabajo se presenta la separación microfásica de un BCP asimétrico de poliestireno-bloque-poli(ferrocenil dimetilsilano) (PS-b-PFS) que permite formar matrices ordenadas de nanoestructuras mediante el moldeo por rotación de PS-b-PFS sobre sustratos y su posterior recocido con disolvente. Se discuten los efectos de las condiciones de recocido con disolvente sobre el autoensamblaje y la estabilidad estructural.
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