Resumen

Estamos motivados para modelar procesos de PE-CVD (deposición química en fase vapor asistida por plasma) para placas bipolares metálicas, y su optimización para depositar una capa heterogénea en la placa metálica. Además, una restricción del proceso de deposición es una presión muy baja (casi un vacío) y una baja temperatura (alrededor de 400K). La contribución de este artículo es derivar un sistema multifísico de múltiples problemas físicos que incluye algunas suposiciones para simplificar el proceso complicado y permite derivar un modelo matemático computable sin descuidar los procesos de la vida real. Para modelar el transporte gaseoso en el aparato empleamos flujos móviles de fase gaseosa, fases inmóviles y móviles en una cámara que está llena de un medio poroso (capas de plasma). Se discuten métodos numéricos para resolver tales modelos multiescala y multifásicos y obtener resultados cualitativos para los delicados procesos multifísicos en la cámara. Se discute un anál

• Materias:Polinomios Modelado matemático Integrales Matrices Derivaciones generalizadas
• Subjects:Polynomials Mathematical modeling Integrals Matrices Generalized derivatives
• Palabras claves:Modelo; PE-CVD; Metálico; Capa; Presión; Temperatura
• Keywords:Model; Pe-cvd; Metallic; Layer; Pressure; Temperature