Resumen

En este trabajo se propone un modelo de evolución temporal post-estrés para películas de SiO2 de menos de 10 nm de espesor para la predicción de la degradación y la extracción de parámetros relacionados con la trampa. El modelo se basa en el entendimiento de que la degradación en las películas delgadas de SiO2 continúa dentro del intervalo no estresado. El fenómeno se capta mediante una expresión analítica que indica que la evolución temporal de la degradación de la película de SiO2 consta aproximadamente de dos etapas y que la degradación es más probable que ocurra si hay moléculas de agua presentes. Se demuestra que el sencillo modelo analítico reproduce con éxito los resultados medidos. También se sugiere que el proceso de degradación considerado aquí está relacionado con la difusión de oxígeno en el proceso de transición resistiva.

• Materias:Aluminio Propiedades fisicoquímicas Hidráulica Agua Ingenierí­a hidráulica Soldadura Hidróxido de aluminio
• Subjects:Aluminum Chemicophysical properties Hydraulics Water Hydraulic engineering Welding Aluminum hydroxide
• Palabras claves:película gruesa de sio2, modelo analítico simple, proceso de transición resistiva, película fina de sio2, evolución del sio2, extracción de la trampa, degradación de la película de sio2, modelo de evolución temporal, intervalo sin tensión, moléculas de agua
• Keywords:thick sio2 film, simple analytical model, resistive transition process, thin sio2 film, evolution of sio2, extraction of trap, sio2 film degradation, time evolution model, unstressed interval, water molecules