Resumen

El tratamiento con plasma de oxígeno en superficies de silicio poroso (p-Si) se estudió como un medio práctico y eficaz para modificar las propiedades humectantes de las superficies de p-Si fabricadas, es decir, los ángulos de contacto de los materiales de p-Si. Se han fabricado muestras de p-Si que abarcan una amplia gama de nanoestructuras superficiales que fueron sometidas a una serie de tratamientos con plasma de oxígeno. Se ha observado sistemáticamente la reducción de los ángulos de contacto de la superficie de p-Si, y se ha analizado la constante de velocidad de activación de la superficie en función de diferentes geometrías de poros para obtener una ecuación empírica. Se han analizado los mecanismos de difusión subyacentes teniendo en cuenta los diferentes diámetros de poro de las muestras de p-Si. Se prevé que este enfoque, así como la ecuación empírica correspondiente, puedan utilizarse para proporcionar una guía de proceso relevante con el fin de lograr un control preciso de los ángulos de contacto de p-Si, lo cual es esencial para muchas aplicaciones de p-Si, especialmente en áreas de biosensores.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanomateriales Nanosensores
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanomaterials Nanosensors
• Palabras claves:muestras de si, ecuación empírica, ángulos de contacto superficial de si, tratamiento con plasma de oxígeno, ángulos de contacto de si, diferentes diámetros de poro, diferentes geometrías de poro, tratamientos con plasma de oxígeno, orientación pertinente del proceso, tasa de activación superficial
• Keywords:si samples, empirical equation, si surface contact angles, oxygen plasma treatment, si contact angles, different pore diameters, different pore geometries, oxygen plasma treatments, relevant process guidance, surface activation rate