Resumen

El recubrimiento de sílice fundida por una capa organizada de nanoesferas de sílice (NS) es una cuestión importante para el diseño de propiedades ópticas y topográficas, especialmente para técnicas litográficas como la litografía de nanoesferas (NSL) o la fotolitografía de nanoesferas (NSPL). Aquí se estudia el spin coating de NS dispersas en N,N-dimetilformamida (DMF). El papel del diámetro de las NS, la aceleración del spin-coating y la fracción de volumen son los parámetros a tener en cuenta para la formación y organización de las NS en capas simples o dobles estrechamente empaquetadas. Proponemos una explicación de este comportamiento basada en la transición entre la sedimentación y un régimen viscoso a partir de la organización de las NS de sílice.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanocompuestos Nanofibras
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanocomposites Nanofibers
• Palabras claves:organización de ns de sílice, diámetro de ns, aceleración del recubrimiento, sílice fundida, cuestión importante, técnicas litográficas, litografía de nanosferas, fotolitografía de nanosferas, nanosferas de sílice, recubrimiento por rotación
• Keywords:silica ns organization, ns diameter, coating acceleration, fused silica, important issue, lithography techniques, nanosphere lithography, nanosphere photolithography, silica nanospheres, spin coating