Las propiedades de los nanocristales de silicio (NC de Si), cuyo tamaño suele ser de unos pocos nanómetros, pueden ajustarse exquisitamente mediante el dopaje con boro (B) y fósforo (P). Los últimos avances en la simulación de NCs de Si dopados con B y P han permitido explicar mejor los cambios inducidos por el dopaje con B y P en las propiedades ópticas de los NCs de Si. Esto se debe principalmente a la investigación exhaustiva de las localizaciones del B y el P en las NC de Si y a las propiedades electrónicas de las NC de Si dopadas con B y P. A continuación se comentan las implicaciones de los nuevos conocimientos sobre las CN de Si dopadas con B y P. Se prevé una investigación continua para avanzar en la comprensión del dopaje de las NC de Si con B y P.
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