Se desarrolla una nueva metodología para la fabricación de nanoestructuras sobre sustrato basada en el proceso de transferencia de plantillas porosas de Al2O3 anodizado (AAO). Incluye (1) la formación de matrices de nanorods de aleación amorfa, resina negativa resistente a los rayos UV (es decir, SU-8) o placa de PMMA (polimetilmetacrilato) mediante moldeo por prensado en caliente de aleación amorfa, resina negativa resistente a los rayos UV (es decir, SU-8), o placa de PMMA en los sustratos porosos anodizados de Al2O3; (2) eliminación de las plantillas de AAO mediante un proceso de grabado químico tras un postratamiento adecuado (recocido y/o irradiación) para mejorar la resistencia mecánica de las matrices de nanorodos; (3) reforma de las películas de nanoporos mediante el estampado en caliente de las matrices de nanorodos en una fina capa de película de polímero sobre sustratos (por ejemplo, sílice); (4) limpieza de los residuos del fondo en los poros de las películas mediante plasmón de oxígeno. Los resultados indican que los diámetros de las matrices de nanorods de aleación amorfa (o resina negativa resistente a los rayos UV o PMMA) pueden oscilar entre 32 nm y 200 nm. Los diámetros de los nanoporos de la fotorresistencia ILR-1050 impresa son de unos 94,5 ± 12,2 nm y los diámetros de los nanoporos impresos o de resina SU-8 sobre portaobjetos de vidrio son de unos 207 ± 26,4 nm, que heredan los diámetros de las plantillas de AAO. Esta metodología proporciona un método general para fabricar matrices de nanorods y/o películas delgadas de nanoporos mediante el proceso de nanoimpresión por transferencia de plantillas.
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