Resumen

Hemos cultivado películas nanoestructuradas de doble hidróxido estratificado (LDH) de Zn/Al sobre diferentes sustratos combinando la deposición de una fina capa micropatternada de aluminio con un proceso sucesivo de química húmeda a temperatura ambiente de un solo paso. La película de LDH resultante está formada por nanoplaquetas laminares orientadas principalmente en perpendicular al sustrato. Dado que la capa de aluminio actúa como reactivo y semilla para la síntesis de la LDH, el crecimiento puede limitarse fácilmente con una resolución submicrométrica (aproximadamente ±0,5 μm) mediante el prepatternado de la capa de aluminio con técnicas fotolitográficas convencionales. Además, demostramos la monitorización en tiempo real del proceso de crecimiento del LDH simplemente midiendo la resistencia de la película de aluminio residual. Si la capa de aluminio es inferior a 250 nm, la morfología de las nanoplaquetas LDH es menos regular y su grosor final depende linealmente de la cantidad inicial de aluminio. Esta peculiaridad permite controlar con precisión el grosor de las nanoplaquetas LDH (con una incertidumbre de aproximadamente ±10%) variando el grosor de la película de aluminio predepositada. Dado que el procedimiento de crecimiento propuesto es totalmente compatible con la tecnología MEMS/CMOS, nuestros resultados pueden ser útiles para la fabricación de micro/nanodispositivos.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Bioingeniería Nanoestructuras Nanocompuestos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Bioengineering Nanostructures Nanocomposites
• Palabras claves:capa de aluminio, ldh, doble hidróxido estratificado de al, proceso de crecimiento ldh, técnicas fotolitográficas convencionales, película de aluminio predepositada, película de aluminio residual, aluminio, tecnología cmos, película ldh
• Keywords:aluminum layer, ldh, al layered double hydroxide, ldh growth process, conventional photolithographic techniques, predeposited aluminum film, residual aluminum film, aluminum, cmos technology, ldh film