Resumen

Las películas delgadas de silicio microcristalino hidrogenado pueden utilizarse para fabricar células solares estables de película delgada, que se depositaron mediante deposición química en fase vapor mejorada por plasma de muy alta frecuencia a bajas temperaturas (~200°C). Se ha comprobado que la película obtenida presentaba excelentes propiedades estructurales y eléctricas, como una elevada velocidad de crecimiento y una buena cristalinidad. Con la disminución de la concentración de silano, aumentaban el hueco óptico y la conductividad oscura, mientras que disminuía la energía de activación. Se presentó una explicación razonable para dilucidar estos fenómenos. Además, fabricamos células solares de estructura p-i-n utilizando las películas finas de silicio microcristalino óptimas, y se obtuvo una eficiencia preliminar del 4,6% para células solares de película fina de silicio microcristalino de 1 μm de espesor con un voltaje en circuito abierto de 0,773 V y una densidad de corriente en cortocircuito de 12,28 mA/cm2. Las posibilidades futuras de mejora del rendimiento residen principalmente en seguir aumentando la corriente de cortocircuito.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Bioingeniería Nanoestructuras Nanocompuestos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Bioengineering Nanostructures Nanocomposites
• Palabras claves:células solares, películas delgadas, silicio microcristalino hidrogenado, deposición química de vapor, plasma de alta frecuencia, alta tasa de crecimiento, silicio microcristalino óptimo, película delgada estable, silicio microcristalino grueso, alcance futuro
• Keywords:solar cells, thin films, hydrogenated microcrystalline silicon, chemical vapor deposition, high frequency plasma, high growth rate, optimum microcrystalline silicon, stable thin film, thick microcrystalline silicon, future scope