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Optimization of the Cathode Arc Plasma Deposition Processing Parameters of ZnO Film Using the Grey-Relational Taguchi MethodOptimización de los Parámetros de Procesamiento de Deposición de Plasma de Arco Catódico de la Película de ZnO Utilizando el Método Taguchi Relativo a los Grises

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Depositamos películas de ZnO sin dopar sobre el sustrato de vidrio a una temperatura baja (

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  • Idioma:Inglés
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DC.Title.spa
 Optimization of the Cathode Arc Plasma Deposition Processing Parameters of ZnO Film Using the Grey-Relational Taguchi Method
DC.Title.eng
 Optimización de los Parámetros de Procesamiento de Deposición de Plasma de Arco Catódico de la Película de ZnO Utilizando el Método Taguchi Relativo a los Grises
DC.Creator
 Shuo-Fu, Hsu; Jyh-Horng, Chou; Chun-Hsiung, Fang; Min-Hang, Weng
DC.Subject.snpi.spa
DC.Subject.snpi.eng
DC.Subject.spa
  •  película de zno no dopada, baja temperatura, sustrato de vidrio
DC.Subject.eng
  •  undoped zno film, low temperature, glass substrate
DC.Description.spa
Depositamos películas de ZnO sin dopar sobre el sustrato de vidrio a una temperatura baja (
DC.Source
 https://www.hindawi.com/journals/amse/about/2014/187416
DC.Identifier.virtualpro
 http://www.revistavirtualpro.com/biblioteca/optimizacian-de-los-parametros-de-procesamiento-de-deposician-de-plasma-de-arco-catadico-de-la-pelacula-de-zno-utilizando-el-matodo-taguchi-relativo-a-los-grises
DC.Identifier.issn-isbn
 ISSN:1687-8434
DC.Identifier.citacion
 Revista Virtual Pro, ,
DC.Language
 Inglés
DC.Relation
 
DC.Publisher
Hindawi Publishing Corporation
DC.Contributor
 
DC.Rights
 Derechos de autor:6
DC.Date
 2014
DC.Type
 Artículo
DC.Format
 pdf
DC.Identifier.file
http://downloads.hindawi.com/journals/amse/2014/187416.pdf

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