Este documento presenta la aplicación del diseño experimental de Taguchi en el desarrollo de recubrimientos nanoestructurados de circona estabilizada con itria (YSZ) mediante el proceso de proyección por plasma. Este documento describe la dependencia de la resistencia de adherencia de los recubrimientos YSZ nanoestructurados recién pulverizados en varios parámetros del proceso, y el efecto de estos parámetros en la salida de rendimiento ha sido estudiado utilizando el diseño de array ortogonal L de Taguchi. Se ha encontrado que las velocidades de las partículas antes de impactar en el sustrato, la distancia de separación y la temperatura de las partículas son los parámetros más significativos que afectan la resistencia de unión. Para lograr la retención de la nanoestructura, el estado fundido de los nanoaglomerados (temperatura y velocidad) ha sido monitoreado utilizando una herramienta de diagnóstico de partículas. Se ha encontrado experimentalmente una resistencia de adherencia máxima de 40.56MPa seleccionando los niveles óptimos de los factores seleccionados. La mayor resistencia de
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