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Optimization of a Hydrothermal Growth Process for Low Resistance 1D Fluorine-Doped Zinc Oxide NanostructuresOptimización de un proceso de crecimiento hidrotermal para nanoestructuras 1D de óxido de zinc dopado con flúor de baja resistencia

Resumen

Se ha utilizado el Diseño de Experimentos (DOE) para la optimización de un proceso de crecimiento hidrotermal de óxido de zinc unidimensional dopado con flúor (1D-FZO). En el DOE se utilizó el diseño Box-Behnken que incluye tres puntos de diseño en cada uno de los parámetros de las condiciones de síntesis. Los parámetros de las condiciones fueron el tiempo de pulverización de oro (10 s, 15 s y 20 s), el tiempo de reacción hidrotermal (3 horas, 6,5 horas y 10 horas) y la temperatura hidrotermal (50°C, 75°C y 100°C). Este método estadístico de DOE se utilizó para estudiar los efectos de estas condiciones hidrotermales en la calidad del 1D-FZO producido. Se utilizaron nanopartículas de Au como catalizador para permitir el crecimiento del 1D-FZO. Los análisis XRD y EDX confirmaron la formación de FZO policristalino con presencia de elementos de flúor, zinc y oxígeno. Las observaciones SEM indicaron que el tiempo de sputtering de las nanopartículas de Au tiene un efecto significativo sobre la morfología y el proceso de crecimiento del 1D-FZO. El valor de resistencia más bajo de 22,57 Ω se alcanzó para 1D-FZO crecido con el mayor tiempo de sputtering de Au a una temperatura de crecimiento inferior a 100°C.

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