Se han asignado orientaciones moleculares a películas finas de polímeros de silicio unidimensionales cultivadas por evaporación al vacío mediante la estructura fina de absorción de rayos X de borde cercano (NEXAFS) utilizando radiación sincrotrón linealmente polarizada. El polímero investigado fue el polidimetilsilano (PDMS), que es el polímero de silicio estable más sencillo y uno de los materiales candidatos para el alambre molecular unidimensional. En el caso de las películas de PDMS depositadas sobre grafito pirolítico altamente orientado (HOPG), se han identificado cuatro picos de resonancia en los espectros NEXAFS de Si K-edge. Entre estos picos, las intensidades de los dos picos de energía más baja a 1842,0 eV y 1843,2 eV resultaron ser fuertemente dependientes de la polarización. Los picos se asignan a las excitaciones de resonancia del Si 1s a los orbitales σ∗ pyz y σ∗ px localizados en los enlaces Si-C y Si-Si, respectivamente. La evaluación cuantitativa de la dependencia de la polarización de los espectros NEXAFS reveló que las moléculas están autoensambladas en la superficie HOPG, y las espinas dorsales del PDMS están orientadas casi paralelas a la superficie. La orientación observada es opuesta a los resultados observados anteriormente para el PDMS sobre otras superficies como óxido (óxido de indio y estaño) y metal (cobre policristalino). La característica plana del PDMS observada sólo en la superficie HOPG se atribuye a la interacción entre los enlaces CH del PDMS y los orbitales π de la superficie HOPG.
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