Se prepararon películas de nanoplacas de óxido de tungsteno (WO3) de alta superficie mediante una sencilla técnica de anodización electroquímica controlando el contenido de fluoruro (NH4F) en el electrolito. El diseño y desarrollo de ensamblajes nanoestructurados basados en WO3 han cobrado un gran interés con el fin de maximizar la superficie específica para cosechar más fotones que desencadenen la reacción de oxidación fotocatalítica. Este estudio pretende determinar el contenido óptimo de NH4F en la formación de nanoplacas de WO3 sobre película de W con reacción de oxidación fotocatalítica eficiente para la degradación de colorantes orgánicos utilizando nuestra energía solar. Se encontró que el NH4F influye en la disolución química y en las tasas de disolución asistida por campo, modificando así la morfología final de la película de ensamblajes de nanoestructuras basadas en WO3. Se comprobó que el 0,7% en peso de NH4F es la cantidad mínima para hacer crecer la película de nanoplacas de WO3 sobre la película de W. Los resultados experimentales de la fotocatálisis de oxidación mostraron que la película de nanoplacas de WO3 presentaba una degradación máxima del colorante naranja de metilo (≈75%) bajo iluminación solar durante 5 horas. Este comportamiento se atribuyó al mejor transporte de portadores de carga y a la minimización de las pérdidas por recombinación con el área superficial específica de la estructura de nanoplacas.
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