Resumen

Las películas delgadas de TiO2 se prepararon utilizando Ti(dpm)2(OPri)2 y Ti(OPri)4 (dpm = 2,2,6,6-tetrametilheptano-3,5-diona, Pri = isopropilo) como precursores. Los compuestos volátiles Fe[(C2H5)2NCS2]3 y [(CH3)C]2S2 se utilizaron para preparar películas de TiO2 dopado. La síntesis se realizó en vacío o en presencia de Ar y O2. La presión en la cámara de CVD se varió entre 1,2×10-4 mbar y 0,1 mbar, trabajando el sistema en régimen de haz molecular o de flujo de gas. Se estudiaron las propiedades físicas, químicas y fotocatalíticas de las películas de TiO2 dopadas con (Fe, S). Las películas de TiO2:(Fe, S) preparadas a partir del precursor Ti(OPri)4 muestran una mayor actividad fotocatalítica, muy próxima a la del polvo Degussa P25 en la región UV.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Biofotónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Biophotonics
• Palabras claves:pri = películas de tio2 dopadas con isopropilo, s), espectáculo de precursores ti(opri)4, películas de tio2 dopadas, régimen de flujo de gas, mbar, cámara de cvd, polvo p25, región uv, haz molecular
• Keywords:pri = isopropyl, s)-doped tio2 films, ti(opri)4 precursor show, doped tio2 films, gas flow regime, mbar, cvd chamber, p25 powder, uv region, molecular beam