Resumen

En este trabajo se describe la actividad visible y ultravioleta de finas películas de plata. Las películas se crecen mediante un proceso de CVD que emplea precursores de plata de base acuosa, deposición química en fase vapor asistida por llama. Este método supera muchas de las limitaciones de la deposición de plata existentes hasta ahora, ya que emplea un proceso a presión atmosférica y precursores de bajo coste y toxicidad. Se evalúa la actividad de las películas resultantes utilizando la destrucción del ácido esteárico como compuesto modelo. También informamos sobre la adición de titania a estas películas de plata para aumentar la funcionalidad potencial. También se demuestra que las películas son transparentes a la vista, lo que amplía aún más las posibilidades de aplicación de este trabajo. Se especula que la naturaleza nanoparticulada de la plata CVD es crucial para determinar la fotoactividad.

• Materias:Electroquímica Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras
• Subjects:Electrochemistry Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures
• Palabras claves:proceso de presión atmosférica, deposición química de vapor, destrucción del ácido esteárico, películas delgadas de plata, actividad, películas, proceso cvd, plata cvd, actividad uv, compuesto modelo
• Keywords:atmospheric pressure process, chemical vapour deposition, stearic acid destruction, thin silver films, activity, films, cvd process, cvd silver, uv activity, model compound