Las películas porosas de oro que se presentan en este trabajo se forman combinando métodos de deposición electrolítica de oro y de templado de perlas de poliestireno. Este enfoque original permite la formación de películas conductoras (2 × 106 (Ω-cm)-1) con porosidad a medida e interconectada. La película porosa de oro se depositó hasta 1,2 μm sobre el sustrato de silicio sin delaminación. Una matriz de gel de circonio original que contiene nanopartículas de oro depositadas sobre el sustrato actúa a la vez como capa de adhesión mediante la creación de enlaces covalentes y como capa semilla para el crecimiento de la película de oro metálico. Se han optimizado los parámetros de recubrimiento por inmersión y la cinética de deposición electrolítica de oro para crear una red tridimensional de poros de 20 nm de ancho separados por capas continuas de oro de 20 nm de espesor. Las películas porosas de oro resultantes se caracterizaron por GIXRD, SEM, adsorción-desorción de criptón y método de sondas de 4 puntos. El proceso es adaptable a diferentes tamaños de poro y se basa en la química húmeda. En consecuencia, las películas porosas de oro presentadas en este trabajo pueden utilizarse en una amplia gama de aplicaciones, como la detección, la catálisis, la óptica o la electrónica.
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