Resumen

La etapa de oblea en un sistema litográfico de doble etapa es una plataforma de movimiento servo de cojinete de aire que requiere una alta precisión de posicionamiento y un alto rendimiento transitorio. Sin embargo, la vibración residual, resultante de un amortiguamiento casi nulo, alta velocidad, estructura de desacoplamiento paralelo y accionamiento directo, provoca un sobrepaso y tiempo de asentamiento inaceptables. Para suprimir estos elementos desfavorables en el movimiento dinámico de alta velocidad, en este artículo se propone un novedoso método de planificación de perfiles de movimiento combinado con conformación de entrada. En primer lugar, se deriva una trayectoria llamada curva-S totalmente libre (AFS-curve), que tiene menos restricciones y un mejor rendimiento que el perfil de curva-S tradicional. Luego, se desarrolla la AFS-curve combinada con un conformador de vibraciones cero (ZV) para suprimir aún más la vibración residual. Debido a la complejidad de ajuste de parámetros, la sintonización en línea puede provocar

• Materias:Big Data Restricciones distribuidas Algoritmo de inferencia Gestión administrativa
• Subjects:Big Data Distributed constraints Inference algorithm Administrative management
• Palabras claves:Etapa de oblea; Sistema litográfico de doble etapa; Plataforma de movimiento; Vibración residual; Conformación de entrada; Planificación de perfil de movimiento
• Keywords:Wafer stage; Dual-stage lithographic system; Motion platform; Residual vibration; Input shaping; Motion profile planning