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Preparation of Anodic Aluminum Oxide Masks with Size-Controlled Pores for 2D Plasmonic Nanodot ArraysPreparación de máscaras de óxido de aluminio anódico con poros de tamaño controlado para matrices de nanopuntos plasmónicos 2D

Resumen

Las capas de óxido de aluminio anódico (AAO) con poros de tamaño nanométrico se han utilizado como máscaras de sombra para la fabricación de matrices de nanopuntos metálicos (NDA) bidimensionales (2D). Sin embargo, la resonancia plasmónica superficial localizada (LSPR) de los NDAs de tamaño controlado fabricados utilizando máscaras AAO no ha sido muy estudiada. En este estudio, presentamos un método mejorado de preparación y utilización de una máscara AAO ultrafina para la fabricación de NDA metálicos plasmónicos 2D. El mayor reto en la preparación de una máscara de AAO es controlar el diámetro de los poros y hacerlo reproducible. Las máscaras de AAO con poros de tamaño controlado se prepararon de forma reproducible mediante un método de grabado químico húmedo en dos pasos. Se fabricaron NDA de Ag con diferentes diámetros de punto (42, 60 y 80 nm) y NDA de Ag, Cu y Au con un diámetro de punto de 80 ± 5 nm sobre sustratos de vidrio de óxido de indio y estaño utilizando máscaras de AAO. Las longitudes de onda correspondientes a la LSPR de los NDA metálicos 2D se investigaron mediante espectroscopia ultravioleta-visible. Nuestros resultados demuestran que las máscaras AAO con poros sintonizables pueden utilizarse como máscaras de sombra para la fabricación de NDAs plasmónicos 2D.

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