Biblioteca122.294 documentos en línea

Artículo

Prepared and Characteristics of ZnO:YAG/Silicon Nanostructure Diodes Prepared by Ultrasonic SprayingPreparación y características de diodos de nanoestructura de ZnO:YAG/silicio preparados mediante pulverización ultrasónica

Resumen

Este trabajo presenta una novedosa fuente de luz blanca. Se deposita una película de granate de itrio y aluminio (YAG) con fósforo incorporado de óxido de zinc (ZnO) (ZnO:YAG) sobre un sustrato de silicio mediante pirólisis por pulverización ultrasónica para formar un diodo de nanoestructura. En las superficies del sustrato de silicio se forma una nanoflor consistente en un nanopetal hexagonal. En el diodo de nanoestructura de ZnO:YAG/silicio se observó una banda blanca ancha de fotoluminiscencia a temperatura ambiente que oscilaba entre 420 y 650 nm. La banda blanca ancha está formada por las emisiones de la transición de nivel de defecto de la película de ZnO y las transiciones de nivel 5D4 a nivel 7F6 y 7F5 de los iones Ce3.

  • Tipo de documento:
  • Formato:pdf
  • Idioma:Inglés
  • Tamaño: Kb

Cómo citar el documento

Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.

Este contenido no est� disponible para su tipo de suscripci�n

Información del documento