Las nanoestructuras metálicas y semiconductoras unidimensionales presentan propiedades físicas interesantes, pero su integración en los dispositivos electrónicos modernos suele ser una tarea muy ardua. Encontrar los soportes adecuados para las nanoestructuras y los contactos a nanoescala son aspectos muy deseados en este sentido. En el presente trabajo demostramos la fabricación de nanoestructuras y mesoestructuras 1D entre contactos microestructurados formados directamente sobre un chip de silicio, ya sea mediante un enfoque de fractura de película delgada (TFF) o mediante un enfoque de vapor-líquido-sólido modificado (MVLS). En principio, ambos métodos ofrecen la posibilidad de integrar estas estructuras nanomicroestructuradas en la fabricación de obleas. También se presentan las propiedades eléctricas de estas nano-microestructuras integradas en chips de Si y sus aplicaciones preliminares en la dirección de sensores y transistores de efecto de campo.
Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.
Artículo:
Síntesis solvotérmica de fotocatalizadores de TiO2 en disolventes cetónicos con bajo punto de ebullición
Artículo:
Diseño biónico para reducir la resistencia a la adherencia de la cresta inspirado en la cabeza de un jabalí
Artículo:
Los exosomas circulantes de la leucemia aguda hiperleucocítica regulan las CMH y las CMM-BM
Artículo:
Preparación de puntos cuánticos de grafeno y su aplicación en la obtención de imágenes celulares
Artículo:
Calidad de la señal EEG de un sistema de registro subcutáneo comparado con electrodos de superficie estándar
Libro:
Ergonomía en los sistemas de trabajo
Artículo:
Obtención de gas combustible mediante la bioconversión del alga marina Ulva lactuca
Artículo:
Sistemas de producción y potencial energético de la energía mareomotriz
Artículo:
La necesidad de la planeación estratégica en las organizaciones industriales modernas