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Procedures and Properties for a Direct Nano-Micro Integration of Metal and Semiconductor Nanowires on Si ChipsProcedimientos y propiedades para una nanomicrointegración directa de nanohilos metálicos y semiconductores en chips de Si

Resumen

Las nanoestructuras metálicas y semiconductoras unidimensionales presentan propiedades físicas interesantes, pero su integración en los dispositivos electrónicos modernos suele ser una tarea muy ardua. Encontrar los soportes adecuados para las nanoestructuras y los contactos a nanoescala son aspectos muy deseados en este sentido. En el presente trabajo demostramos la fabricación de nanoestructuras y mesoestructuras 1D entre contactos microestructurados formados directamente sobre un chip de silicio, ya sea mediante un enfoque de fractura de película delgada (TFF) o mediante un enfoque de vapor-líquido-sólido modificado (MVLS). En principio, ambos métodos ofrecen la posibilidad de integrar estas estructuras nanomicroestructuradas en la fabricación de obleas. También se presentan las propiedades eléctricas de estas nano-microestructuras integradas en chips de Si y sus aplicaciones preliminares en la dirección de sensores y transistores de efecto de campo.

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  • Idioma:Inglés
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Información del documento

  • Titulo:Procedures and Properties for a Direct Nano-Micro Integration of Metal and Semiconductor Nanowires on Si Chips
  • Autor:Dawit, Gedamu; Ingo, Paulowicz; Seid, Jebril; Yogendra, Kumar Mishra; Rainer, Adelung
  • Tipo:Artículo
  • Año:2012
  • Idioma:Inglés
  • Editor:Hindawi Publishing Corporation
  • Materias:Biotecnología Nanotecnología Fotocatálisis Nanopartículas Nanomateriales
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