Resumen

Se formaron películas delgadas de plata-cobre-óxido mediante la técnica de pulverización catódica por magnetrón de RF utilizando un blanco Ag80Cu20 a distintas presiones parciales de oxígeno en el intervalo de 5 × 10-3-8 ×10-2 Pa y temperaturas del sustrato en el intervalo de 303-523 K. Se estudió el efecto de la presión parcial de oxígeno y la temperatura del sustrato sobre la estructura y la morfología superficial y las propiedades eléctricas y ópticas de las películas. Las películas de Ag-Cu-O formadas a temperatura ambiente (303 K) y a una baja presión parcial de oxígeno de 5 × 10-3 Pa eran de fase mixta de Ag2Cu2O3 y Ag, mientras que las depositadas a 2 × 10-2 Pa estaban compuestas por las fases Ag2Cu2O4 y Ag2Cu2O3. La cristalinidad de las películas formadas a una presión parcial de oxígeno de 2 × 10-2 Pa aumentó con el incremento de la temperatura del sustrato de 303 a 423 K. Con el incremento de la temperatura del sustrato hasta 523 K, las películas se descompusieron en las fases Ag2O y Ag. La resistividad eléctrica de las películas disminuyó de 0,8 Ωcm con el aumento de la temperatura del sustrato de 303 a 473 K debido a la mejora de la cristalinidad de la fase. La brecha de banda óptica de las películas de Ag-Cu-O aumentó de 1,47 a 1,83 eV con el aumento de la temperatura del sustrato de 303 a 473 K.

• Materias:Biotecnología Nanotecnología Fotocatálisis Nanopartículas
• Subjects:Biotechnology Nanotechnology Photocatalysis Nanoparticles
• Palabras claves:temperatura del sustrato, presión parcial, películas, aumento, películas o, brecha de banda óptica, cristalinidad, oxígeno, rango, fases ag
• Keywords:substrate temperature, partial pressure, films, increase, o films, optical band gap, crystallinity, oxygen, range, ag phases